等離子光解光催化設(shè)備 簡介
等離子光解光催化設(shè)備 也可稱之為 等離子光解一體機凈化設(shè)備，是一種專門去除有毒有害氣體及惡臭氣體的一種裝置。是等離子分解廢氣凈化器+UV光解除臭廢氣凈化器兩種設(shè)備的完美結(jié)合，綜合采用了等離子廢氣凈化器和紫外光觸媒除臭廢氣凈化器兩種設(shè)備的優(yōu)點組合而成，利用等離子分解技術(shù)和UV紫外光解技術(shù)相結(jié)合，對廢氣和臭氣進行高效協(xié)同凈化處理！
它具有高效率、運行成本低、設(shè)備占地面積小，自重輕、無任何機械動作，無噪音等特點，等離子光解一體機凈化設(shè)備凈化效率在95%以上。是目前市場上性能優(yōu)異的廢氣凈化設(shè)備。
等離子光解光催化設(shè)備 工作原理 等離子光解光催化設(shè)備 技術(shù)特點 ②消除污染有害氣體異味，初級電子在電場中獲得加速，撞擊空氣中的氧分子。當(dāng)能量超過氧分子的電離電位時氧分子迅速離子化。失去電子的氧分子變成正極性氧離子（O2+），而釋放的電子又與另一中性氧分子結(jié)合變成負(fù)極性氧離子（O2－），結(jié)果是氧離子的兩級分化并吸附中性氧分子形成O2+、O2－、O2 等氧聚集的離子群，具有極強的氧化性，可在很短的時間內(nèi)將污染空氣中的有害成分氧化分解為無害的產(chǎn)物和水。 等離子光解光催化設(shè)備 適用領(lǐng)域 等離子光解光催化設(shè)備 工藝圖 光解光催化設(shè)備工藝圖
>> 等離子光解光催化設(shè)備 工作原理
當(dāng)廢氣進入等離子光解一體機凈化設(shè)備內(nèi)時，先經(jīng)過等離子體化學(xué)反應(yīng)過程，即電子首先從電場獲得能量，通過激發(fā)或電離將能量轉(zhuǎn)移到分子或原子中去，獲得能量的分子或原子被激發(fā)，同時有部分分子被電離， 從而成為活性基團；之后這些活性基團與分子或原子、活性基團與活性基團之間相互碰撞后生成穩(wěn)定產(chǎn)物和熱。(在外加電場的作用下，介質(zhì)放電產(chǎn)生的大量攜能電子轟擊污染物分子，使其電離、解離和激發(fā)，然后便引發(fā)了一系列復(fù)雜的物理、化學(xué)反應(yīng)，使復(fù)雜大分子污染物轉(zhuǎn)變?yōu)楹唵涡》肿影踩镔|(zhì)，或使有毒有害物質(zhì)轉(zhuǎn)變成無毒無害或低毒低害的物質(zhì)，從而使污染物得以降解去除。)
然后部分有機廢氣再通過破壞、分解、催化氧化把污染氣體分解為無毒無害無味氣體。采用高能C波段光線強裂污染氣體分子鏈，改變物質(zhì)分子結(jié)構(gòu)，將高分子污染物質(zhì)裂解、氧化成為低分子無害物質(zhì)，如水和二氧化碳等。O3強催化氧化劑進行廢氣催化氧化, 可有效地殺滅細(xì)菌，將有毒有害物質(zhì)破壞且改變成為低分子無害物質(zhì)。在C波段激光刺激催化劑涂層產(chǎn)生活性，強化催化氧化作用。在分解過程中產(chǎn)生高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進而產(chǎn)生臭氧。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對有機物具有極強的氧化作用，對惡臭氣體及其它刺激性異味有極強的清除效果。O3也為強催化氧化劑進行廢氣催化氧化, 裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應(yīng)，徹底達(dá)到脫臭及殺滅菌的目的。
②體積小，自重輕，結(jié)構(gòu)緊湊，工藝成熟；
③投資少，運行成本低；
④無需預(yù)處理，適應(yīng)性強，安全穩(wěn)定，維護方便，使用壽命長；
⑤除惡臭，一次性凈化效率高，能同時凈化多種污染物，且凈化效率高，無需添加任何物質(zhì)，無二次污染。
● 噴漆車間、油墨印刷、噴涂車間、化工、醫(yī)藥、橡膠、食品、印染、釀造、造紙、煉油廠、污水處理廠、垃圾轉(zhuǎn)運站等產(chǎn)生的有毒有害惡臭廢氣體。 
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